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  • 关于我司两个注册商标的情况声明

    关于我司两个注册商标的情况声明

    ‌我司于2024年6月7日通过第三方机构向国家商标局申请提交了“凯利正光”和“好物料”两枚商标的注册申请。此两枚商标并已通过第三方设计公司进行了设计、版权付费和在区块链平台进行了登记。此两枚商标我司不会向第三方或其它机构授权使用。任何使用该商标的行为均属于侵权行为,我司将对此追究责任。

    声明|2024-06-13